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EOSINTP760系統(tǒng)是EOSINTP700系統(tǒng)的升級(jí)版本，繼承了P700的雙激光系統(tǒng)，同時(shí)進(jìn)行了多項(xiàng)優(yōu)化。 可用于批量生產(chǎn)、備件生產(chǎn)、熔模鑄造原模制造等生產(chǎn)環(huán)境，在產(chǎn)品研發(fā)、測(cè)試、小批量上市等環(huán)節(jié)均適用。 P760系統(tǒng)燒結(jié)過(guò)程中無(wú)需支撐結(jié)構(gòu)。580mm的燒結(jié)高度極大的滿足了客戶成型大尺寸零部件的需求。 而OLPC（在線激光功率控制）模塊可以實(shí)時(shí)監(jiān)控?zé)Y(jié)過(guò)程中的激光功率，從而是設(shè)備可以提供更加恒定的激光輸出。OLPC模塊同時(shí)會(huì)監(jiān)控與燒結(jié)部件品質(zhì)相關(guān)的激光參數(shù)，在必要時(shí)提醒用戶進(jìn)行調(diào)整或維修。 快速鋪粉模塊（可選），在產(chǎn)能模式，節(jié)省了大約一半的鋪粉時(shí)間。 通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)化零件屬性管理系統(tǒng)（含可選及標(biāo)配模塊），可根據(jù)客戶的實(shí)際需求調(diào)整層厚、材料、和實(shí)際應(yīng)用類型（機(jī)械強(qiáng)度模式、注重細(xì)節(jié)模式等）。 通過(guò)這些模式的選擇，客戶可以自行決定零件的強(qiáng)度、細(xì)節(jié)、表面等屬性，并可以節(jié)省大量成本。 標(biāo)準(zhǔn)化零件屬性管理系統(tǒng)的選配模塊可在任何時(shí)刻增加。 P760系統(tǒng)同時(shí)優(yōu)化了整個(gè)生產(chǎn)的流程鏈，使得IPCM系統(tǒng)更加靈活的融入系統(tǒng)。 P760系統(tǒng)的IPCM配套設(shè)備包含自動(dòng)供粉系統(tǒng)（可選配套，適用于大規(guī)模生產(chǎn)）；自動(dòng)除粉濾粉系統(tǒng)（可選配套）；粉末自動(dòng)回收系統(tǒng)（可選配套）；且以上系統(tǒng)均包含無(wú)塵操作配套模塊。配備額外的燒結(jié)模塊跟是可以化的利用P760系統(tǒng)的產(chǎn)能。 軟件：協(xié)助客戶獲得的生產(chǎn)能力。EOS為P760系統(tǒng)配備了多種軟件包，可根據(jù)客戶的不同需求和應(yīng)用進(jìn)行配置，達(dá)到針對(duì)客戶應(yīng)用最優(yōu)化系統(tǒng)性能和產(chǎn)能以及運(yùn)行成本的作用。包括基本內(nèi)置軟件、質(zhì)量保障軟件。并特別針對(duì)生產(chǎn)類型客戶提供ERP模塊、監(jiān)控 產(chǎn)品型號(hào) P760 成型尺寸 700×380×580mm 建造速度 可達(dá)32mm/h 厚度（與材料有關(guān)） 0.06/0.10/0.12/0.15/0.18mm 激光發(fā)射器類型 CO?，2*50W 光學(xué)系統(tǒng) F-theta-lens 激光掃描速度 速度為2*6m/s 支撐結(jié)構(gòu) 不需要 電源支持 32A 功率 12kW，普遍情況3.1kW 氮發(fā)生裝置 集成 壓縮空氣供應(yīng) 20m3/hmin.6，000hPa 產(chǎn)品尺寸 2250×1550×2100mm 控制裝置 1，045mmx850mmx1，620mm 粉末傳輸系統(tǒng) 1，890mmx1，350mmx1，550mm 推薦安裝空間 4.8mx4.8mx3.0m 重量 2300kg 軟件 EOSRPTools，EOSTATE CAD數(shù)據(jù) STL 產(chǎn)品認(rèn)證 CE，NFPA 網(wǎng)絡(luò) Ethernet